| 基于直流磁控溅射晶种层的ZnO纳米阵列的制备及性能研究 |
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| 引用本文： | 王璟,丁雨田,张杨,陈小焱,张增明,尚兴记.基于直流磁控溅射晶种层的ZnO纳米阵列的制备及性能研究[J].人工晶体学报,2013,42(11):2340-2345. |
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| 作者姓名： | 王璟 丁雨田 张杨 陈小焱 张增明 尚兴记 |
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| 作者单位： | 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室,兰州,730050 |
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| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射法制备品种层薄膜,研究O2/Ar气体分压比和退火温度对品种层结构和微观形貌的影响.通过化学水浴沉积,在预制有晶种层的薄膜上制备ZnO纳米阵列结构,研究不同前驱体浓度和预制晶种层对纳米阵列生长的影响.结果表明,当O2/Ar中O2分压减少,薄膜均匀性较差,当Ar分压增加薄膜由于扩散而趋于平整.退火温度增加,晶粒尺寸增大,内应力降低.磁控溅射法预制的晶种层上生长的纳米棒垂直于衬底生长,(002)晶面的衍射峰强最高,说明纳米棒沿c轴择优取向.生长液的浓度对纳米棒的形貌影响显著,随着生长液浓度的升高,ZnO纳米阵列直径增大,顶端趋于平整的六棱柱结构.
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| 关 键 词： | 直流磁控溅射 晶种层薄膜 纳米阵列 ZnO |
Preparation and Properties of ZnO Nanorod Arrays Based on Seed-layer Film by DC Magnetron Sputtering |
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| WANG Jing,DING Yu-tian,ZHANG Yang,CHEN Xiao-yan,ZHANG Zeng-ming,SHANG Xing-ji.Preparation and Properties of ZnO Nanorod Arrays Based on Seed-layer Film by DC Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(11):2340-2345. |
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| Authors: | WANG Jing DING Yu-tian ZHANG Yang CHEN Xiao-yan ZHANG Zeng-ming SHANG Xing-ji |
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