| 金刚石膜表面氨等离子体处理研究 |
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| 引用本文： | 魏俊俊,黑立富,高旭辉,李成明.金刚石膜表面氨等离子体处理研究[J].人工晶体学报,2013,42(8):1526-1530. |
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| 作者姓名： | 魏俊俊 黑立富 高旭辉 李成明 |
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| 作者单位： | 北京科技大学新材料技术研究院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 中央高校基本科研业务费(FRF-TP-13-035A);国家自然科学基金(51272024);教育部博士点基金(20110006110011) |
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| 摘 要： | 本文尝试采用微波等离子体CVD技术,实现金刚石膜的制备以及金刚石膜表面的氨等离子体处理,实现氨基功能化修饰金刚石膜的制备.通过扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)以及水接触角等对氨等离子体处理前后的金刚石膜进行检测分析.结果表明,采用微波等离子体CVD技术,可以在金刚石膜表面植入氨基实现功能化修饰,从而提高金刚石膜表面活性.同时,金刚石膜的整体品质未出现显著变化.
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 微波等离子体 氨基 水接触角 |
Ammonia Plasma Treatment on Diamond Film Surface |
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| WEI Jun-jun,HEI Li-fu,GAO Xu-hui,LI Cheng-ming.Ammonia Plasma Treatment on Diamond Film Surface[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(8):1526-1530. |
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| Authors: | WEI Jun-jun HEI Li-fu GAO Xu-hui LI Cheng-ming |
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