| 衬底温度对Al掺杂ZnO薄膜结构及其光电性能的影响 |
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| 引用本文： | 吴克跃,吴兴举,常磊.衬底温度对Al掺杂ZnO薄膜结构及其光电性能的影响[J].人工晶体学报,2013,42(10):2156-2159. |
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| 作者姓名： | 吴克跃 吴兴举 常磊 |
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| 作者单位： | 皖西学院材料与化工学院,六安237012;皖西学院安徽省太阳能光伏材料开发与应用工程技术研究中心,六安237012;皖西学院材料与化工学院,六安,237012 |
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| 基金项目： | 安徽省教育厅自然科学重点项目(KJ2013A261);六安市定向委托皖西学院自然科学基金(2013LWA012) |
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| 摘 要： | 利用溅射方法制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,探究了衬底温度对薄膜的形貌特征、结构和光电性能的调控.实验结果表明:衬底温度可以调控AZO薄膜的生长方式以及光电性能.随着衬底温度的升高,AZO薄膜从无规则的形状转变为球形并且其颗粒尺寸逐渐减小.XRD分析表明样品的结晶质量随着衬底温度的升高而变佳.透射光谱研究发现,在低衬底温度下,400 nm附近处有一吸收台阶,随着衬底温度升高,此吸收台阶消失,表明衬底温度影响着AZO内部的缺陷.电学性质研究表明随着衬底温度升高,AZO薄膜的导电性能也随着升高,电阻率从9×10-2 Ω·cm降到5×10-3 Q·cm.而其载流子浓度从6×1019 cm-3增加到2.2×1020 cm-3.
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| 关 键 词： | 氧化锌 磁控溅射 衬底温度 光电性能 |
Effect of Substrate Temperature on the Structure and Photoelectric Properties of Al Doped ZnO Films |
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| WU Ke-yue,WU Xing-ju,CHANG Lei.Effect of Substrate Temperature on the Structure and Photoelectric Properties of Al Doped ZnO Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(10):2156-2159. |
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| Authors: | WU Ke-yue WU Xing-ju CHANG Lei |
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