首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

用正电子湮没技术研究H/He中性束辐照钨钾合金中缺陷的演化
作者姓名:贺玮迪  张培源  刘翔  田雪芬  付馨葛  邓爱红
摘    要:钾掺杂钨合金是一种典型的弥散强化钨基材料,钾掺入在提高钨材料抗冲击能力的同时,也引入大量缺陷,这些缺陷会对合金在服役过程中氢原子和氦原子的存在形态以及演变产生影响.本文使用正电子湮没谱学方法从微观角度研究辐照后钨钾合金中的缺陷信息,通过对氢氦相关缺陷的正电子湮没参数进行模拟,发现氢原子对正电子寿命的影响比氦原子小,弥散...

关 键 词:正电子湮没谱学  中性束辐照  钨钾合金  钾掺杂
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号