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| X射线荧光光谱法测定磁泡薄膜中Y、Bi、Ca、Fe、Ge、Si | |
| 引用本文： | 郝贡章,吴长存,李明洁.X射线荧光光谱法测定磁泡薄膜中Y、Bi、Ca、Fe、Ge、Si[J].分析化学,1985(10). |
| 作者姓名： | 郝贡章 吴长存 李明洁 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院，北京有色金属研究总院，北京有色金属研究总院 |
| 摘 要： | 近年来用X射线荧光光谱测定薄样的方法及技术有了迅速发展,其中对于薄膜组份和厚度的非破坏测定,从Bergel等人用人工制备的点滴滤纸片薄样作标准以来,该方法又有新的进展,本文在此基础上完成了对膜厚小于3μm的Gd-Ga石榴石磁泡薄膜中Y、Bi、Ca、Fe、Ge、Si原子比和含量的非破坏测定。 1.原理及公式:薄样中元素的X射线荧光强度表示如下: |
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