| X射线光刻胶的研究 |
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| 引用本文： | 史天义,黄谦.X射线光刻胶的研究[J].功能高分子学报,1989,2(2):100-104. |
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| 作者姓名： | 史天义 黄谦 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学材料科学与工程系 合肥
(史天义)，中国科学技术大学材料科学与工程系 合肥(黄谦) |
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| 摘 要： | 合成了甲基丙烯酸缩水甘油酯与甲基丙烯酸氯乙酯和甲基丙烯酸氯乙酯与甲基丙烯酸甲酯共聚物,并研究了该共聚物的分子量分布、结构和热稳定性能。研究了甲基丙烯酸缩水甘油酯与甲基丙烯酸氯乙酯正性X射线光刻胶。该光刻胶具有热稳定性和高分辨率性。最低线幅宽度为0.1μm。
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| 关 键 词： | X射线光刻胶 光刻胶 |
Study of X-Ray Photoresist |
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| Shi Tianyi,Huang Qian.Study of X-Ray Photoresist[J].Journal of Functional Polymers,1989,2(2):100-104. |
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| Authors: | Shi Tianyi Huang Qian |
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| Institution: | Shi Tianyi,Huang Qian Department of Materials Science and Engeneering,University of Science and Technology of China,Hefei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | copolymer of glycidyl methacrylate with chloro-methacrylate molecular weight distribution positive X-ray photoresist high resolution linewidth |
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