| 耐熔微掩膜法制备高温超导Josephson结 |
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| 引用本文： | 范世雄,许伟伟,刘庆国,吉争鸣,杨森祖,吴培亨.耐熔微掩膜法制备高温超导Josephson结[J].低温物理学报,2003,25(3):188-192. |
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| 作者姓名： | 范世雄 许伟伟 刘庆国 吉争鸣 杨森祖 吴培亨 |
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| 作者单位： | 南京大学电子科学与工程系,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划项目 (编号 :G19990 6 4 6 )，国家高技术研究发展计划资助的课题~~ |
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| 摘 要： | 在超导Josephson结的制备过程中，传统的成结方式为对超导薄膜进行化学刻蚀或离子刻蚀，以形成特定图形的结．而刻蚀这一步常常会给结的性能带来负面影响，从而直接导致超导器件性能的下降．本介绍了一种利用耐融微掩模制备高温超导Josephson结的方法．本方法的特点是：一次成结无需后期刻蚀，利用此方法可以避免刻蚀工艺对超导器件性能的影响，制备高质量的高温超导Josephson结．本给出利用此方法制备高温超导YBCO／YSZ双晶结的有关工艺，以及初步的实验结果．
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| 关 键 词： | 耐熔微掩膜法 高温超导体 超导Josephson结 弱连接结 超导薄膜 |
| 修稿时间： | 2003年4月7日 |
BICRYSTAL JOSEPHSON JUNCTIONS FABRICATED BY HEAT-RESISTANT MICROSHADOW MASK TECHNIQUE |
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| FAN SHI-XIONG,XU WEI-WEI,LIU QING-GUOJI ZHENG-MING,YANG SEN-ZU,WU PEI-HENG.BICRYSTAL JOSEPHSON JUNCTIONS FABRICATED BY HEAT-RESISTANT MICROSHADOW MASK TECHNIQUE[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,2003,25(3):188-192. |
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| Authors: | FAN SHI-XIONG XU WEI-WEI LIU QING-GUOJI ZHENG-MING YANG SEN-ZU WU PEI-HENG |
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| Institution: | FAN SHI-XIONG XU WEI-WEI LIU QING-GUOJI ZHENG-MING YANG SEN-ZU WU PEI-HENGDepartment of Electronic Science and Engineering,Nanjing University,Nanjing 210093 |
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| Abstract: | In traditional fabrication of Josephson junctions, chemical etching or ion beam etching is used to form the special figure of junctions. Etching often brings negative effect to HTS thin films. A new method to fabricate high-quality YBa-2Cu-3O-7/YSZ bicrystal Josephson junctions by heat-resistant microshadow mask technique is introduced in this thesis .The characteristics of the junction are presented. Experiment on frequency mixing using junctions fabricated with this technique will be carried on. |
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| Keywords: | Josephson junction Heat-resistant microshadow mask technique Bicrystal Josephson junction |
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