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| X光纳米充刻掩模的离子束制备法 | |
| 引用本文： | 韩勇,彭良强,巨新,伊福廷,张菊芳,吴自玉.X光纳米充刻掩模的离子束制备法[J].北京同步辐射装置,2001(2):117-118,. |
| 作者姓名： | 韩勇 彭良强 巨新 伊福廷 张菊芳 吴自玉 |
| 作者单位： | 中国科学院高能物理所，北京100039 |
| 摘 要： | 重离子柬轰击聚碳酸酯后．对样品进行陈化和紫外线照射数化，在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜。利用电化学沉积技术在核孔膜中制备了最小孔径为30纳米的铜纳米线。获得的钥纳米线／聚碳酸酯可以作为x光纳米光刻的腌膜。 |
| 关 键 词： | X光 纳米结构 光刻 纳米线 掩模 核孔膜 电化学沉积 离子束制备法 高能重离子 |
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