首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

模压全息衍射效率的分析
引用本文:张文碧,杨齐民.模压全息衍射效率的分析[J].光子学报,1996,25(7):640-643.
作者姓名:张文碧  杨齐民
作者单位:云南工业大学激光研究所
摘    要:本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅,经历了电铸、模压转移到PET薄膜上,在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的,即深度浅的地方,其最后结果将更浅,甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的,故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀,经过电铸、模压后,进一步加重了这种不均匀性,使得模压片的衍射效率降低,解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。

关 键 词:散斑光强分布  光栅蚀深度  非线性转移  衍射效率
修稿时间:1995-05-23
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
点击此处可从《光子学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《光子学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号