模压全息衍射效率的分析 |
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引用本文: | 张文碧,杨齐民.模压全息衍射效率的分析[J].光子学报,1996,25(7):640-643. |
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作者姓名: | 张文碧 杨齐民 |
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作者单位: | 云南工业大学激光研究所 |
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摘 要: | 本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅,经历了电铸、模压转移到PET薄膜上,在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的,即深度浅的地方,其最后结果将更浅,甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的,故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀,经过电铸、模压后,进一步加重了这种不均匀性,使得模压片的衍射效率降低,解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。
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关 键 词: | 散斑光强分布 光栅蚀深度 非线性转移 衍射效率 |
修稿时间: | 1995-05-23 |
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