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| 关于锗单晶抛光工艺的点滴体会 | |
| 引用本文： | 南开大学光学冷加工组.关于锗单晶抛光工艺的点滴体会[J].物理,1977(2). |
| 作者姓名： | 南开大学光学冷加工组 |
| 摘 要： | 锗单晶具有良好的透光性能,而且不易潮解,在红外光学仪器中,常用作光学元件.但是锗单晶质脆较软,加工时要达到比较高的光洁度和较好的平面度比较困难,需要采取一定的措施.由于我们单位科研任务的需要,自己加工了一些锗元件(主要是平行平面锗镜),进行了铭单晶的抛光工艺,现介绍如下,供同志们参考.1.表面细磨 锗单晶磨砂与光学玻璃磨砂差不多.由于锗的硬度较低,在用金钢砂细磨时,表面磨得越细越均匀越好,最后的磨料采用303#-304#.为了保证较好的平面度,最后要在玻璃平板上采用手工细磨几分钟.2.抛光 锗另件的抛光所用的辅料和抛玻璃是不大一样… |
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