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聚合物太阳电池ITO电极的光刻制备
引用本文:刘桂林,朱华新,郭颖,严慧敏,李果华. 聚合物太阳电池ITO电极的光刻制备[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(6): 1549-1553,1560
作者姓名:刘桂林  朱华新  郭颖  严慧敏  李果华
作者单位:1. 江南大学理学院,无锡,214122
2. 江南大学理学院,无锡214122;江苏省(尚德)光伏技术研究院,无锡214028
摘    要:
使用光刻的方法进行ITO电极的制作,可制得精细的电极结构,本文重点阐述了使用光刻制备ITO电极的方法,包括表面清洗、曝光参量、显影条件、腐蚀工艺等,其中较为理想的ITO光刻工艺为:50 s曝光时间、30 s显影时间、20 s化学腐蚀时间。并用对腐蚀工艺条件进行了理论分析,并使用光学相干断层扫描(OCT)技术对制备的电极进行了测量。

关 键 词:ITO电极  光刻  化学腐蚀  光学相干断层扫描

Fabrication of ITO Electrode with Lithography for Polymer Solar Cells
LIU Gui-lin , ZHU Hua-xin , GUO Ying , YAN Hui-min , LI Guo-hua. Fabrication of ITO Electrode with Lithography for Polymer Solar Cells[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2012, 41(6): 1549-1553,1560
Authors:LIU Gui-lin    ZHU Hua-xin    GUO Ying    YAN Hui-min    LI Guo-hua
Affiliation:1,2(1.School of Science,Jiangnan University,Wuxi 214122,China;2.Jiangsu(Suntech) Institute for Photovoltaic Technology,Wuxi 214028,China)
Abstract:
Keywords:
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