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高功率激光薄膜及相关检测技术
引用本文:马平,胡建平,唐明,邱服民,王震,于杰.高功率激光薄膜及相关检测技术[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):81-81.
作者姓名:马平  胡建平  唐明  邱服民  王震  于杰
摘    要:高阈值高消光比偏振膜元件,对整个大型激光器的能量输出以及系统结构设计极为关键,目前国内技术上仍然难以达到该要求,主要问题在于高阈值与高消光比两个指标难以同时获得,同时制备工艺很难稳定。用于ICF的高功率强激光系统的末端,一般采用三倍频光注入打靶,显然,三倍频薄膜元件的抗激光损伤能力,将直接制约激光系统的能量水平与打靶的效果。因此,建立三倍频损伤测量平台,以推动三倍频紫外激光薄膜与紫外元件的研究已经是当务之急。

关 键 词:激光薄膜  消光比  制备工艺  质量检测  折射率
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