硅酸镥γ图像转换屏荧光弥散特性研究 |
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引用本文: | 马继明,朱宏权,王奎禄,宋顾周,王群书,张建奇.硅酸镥γ图像转换屏荧光弥散特性研究[J].应用光学,2010,31(5). |
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作者姓名: | 马继明 朱宏权 王奎禄 宋顾周 王群书 张建奇 |
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作者单位: | 1. 西安电子科技大学,陕西,西安,710071;西北核技术研究所,陕西,西安,710024 2. 西北核技术研究所,陕西,西安,710024 3. 西安电子科技大学,陕西,西安,710071 |
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摘 要: | 分析LSO无机闪烁晶体中荧光弥散的原理。采用蒙特卡罗方法,将荧光弥散分为γ光子在LSO闪烁体中转化为次级电子并沉积能量,以及沉积能量转换为荧光光子在闪烁体中输运2个过程进行模拟。其中,前一过程采用MCNP蒙特卡罗程序模拟,后一过程的模拟计算由自编蒙特卡罗程序实现。给出了闪烁体的点扩散函数,计算结果与刀口法实验测量得到的点扩散函数相吻合。采用该方法计算了不同入射γ射线能量和各种厚度闪烁体下的点扩散函数。数据结果表明:点扩散函数的FWTM(full width at tenth maximum)随着γ射线能量的增大先减后增,并逐渐趋于稳定,还随着闪烁体厚度的增加而逐渐增大,文中给出了呈现这种变化规律的原因。
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关 键 词: | LSO闪烁体 荧光弥散 辐射成像 |
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