| Al/ZnO/Al薄膜的结构与磁性分析 |
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| 作者姓名： | 岂云开 顾建军 刘力虎 张海峰 徐芹 孙会元 |
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| 作者单位： | (1)河北师范大学物理科学与信息工程学院,石家庄 050016;河北民族师范学院物理系,承德 067000; (2)河北师范大学物理科学与信息工程学院,石家庄 050016;河北省新型薄膜材料重点实验室,石家庄 050016;河北民族师范学院物理系,承德 067000 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金 (批准号:A2009000254),河北师范大学博士基金(批准号:L2006B10),河北省新型薄膜材料重点实验室开放课题项目资助的课题. |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射的方法制备了Al/ZnO/Al纳米薄膜,并对薄膜分别在真空及空气中进行退火处理.利用X射线衍射仪(XRD)和物理性能测量仪(PPMS)分别对薄膜样品的结构和磁性进行了表征.XRD分析表明,不同的退火氛围对薄膜的微结构有着很大的影响.采用了一种新的修正方法对磁测量结果进行修正,计算了基底拟合误差的最大值,并对修正后样品的磁性进行了分析.结果显示,室温铁磁性可能与Al和ZnO基体之间发生的电荷转移以及在不同退火氛围下Al在ZnO晶格中的地位变化有关.
关键词：
Al/ZnO/Al薄膜
铁磁性
磁性表征
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| 关 键 词： | Al/ZnO/Al薄膜 铁磁性 磁性表征 |
| 收稿时间： | 2010-11-16 |
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