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| 物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(V) 金刚石薄膜及其应用 | |
| 引用本文： | 邹广田,于三.物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(V) 金刚石薄膜及其应用[J].物理,1992(5). |
| 作者姓名： | 邹广田 于三 |
| 作者单位： | 超硬材料国家重点实验室吉林大学原子与分子物理研究所 长春130023 (邹广田)，超硬材料国家重点实验室吉林大学原子与分子物理研究所 长春130023(于三) |
| 摘 要： | 金刚石薄膜的气相合成及应用研究近年来取得了飞速发展，气相合成金刚石薄膜的ＣＶＤ方法已达２０几种，最大的沉积速度已达到每小时９３０μｍ．硼掺杂金刚石薄膜的空穴载流子浓度已达到１０～（１８）ｃｍ～（－３），电阻率已达到１０～（－２）Ω·ｃｍ，在硅衬底表面实现了金刚石薄膜的选择性生长．金刚石薄膜热沉使半导体锁相列阵激光器的输出功率提高了１０％左右，金刚石薄膜作为刀具涂层使刀具的寿命得到提高，金刚石热敏电阻、发光管、场效应管等器件原型电子器件在实验上已获得成功． |
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