| 溅射压强对W掺杂ZnO薄膜结构及光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 郭胜利,胡跃辉,胡克艳,陈义川,范建彬,徐承章,童帆.溅射压强对W掺杂ZnO薄膜结构及光学性能的影响[J].人工晶体学报,2016(4):1126-1130. |
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| 作者姓名： | 郭胜利 胡跃辉 胡克艳 陈义川 范建彬 徐承章 童帆 |
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| 作者单位： | 景德镇陶瓷学院机械电子工程学院,景德镇,333403 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(61066003;61464005)，江西省发明专利产业化技术示范项目(20143BBM26051)，江西省对外合作项目(20132BDH80025)，江西省自然科学基金(20132BAB202001)，江西省主要学科学术和技术带头人培养计划项目(20123BCB22002)，江西省高等学校科技落地计划(KJLD12085)，江西省教育厅科技资助项目(GJJ12494;GJJ13625)，江西省研究生创新基金项目(YC2014-S315) |
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| 摘 要： | 在不同溅射压强下,通过射频(RF)磁控溅射在石英玻璃衬底上沉积得到W掺杂ZnO薄膜(WZO)。对样品的结晶性能,表面形貌和光学性能进行测试分析,结果表明:在适当溅射压强下,薄膜具有良好的结晶性和光学性能。随着溅射压强的增加,薄膜的结晶性先变好后变差,晶粒尺寸先增大后减小,在1.0 Pa时薄膜的结晶性最好,且晶粒尺寸最大,约为32 nm;所有WZO薄膜样品的平均透光率超过80%;光致发光主要由本征发光和缺陷引起的蓝光发光组成,在1.0 Pa时薄膜还有明显的Zni缺陷,在1.2 Pa时薄膜有明显的Oi缺陷。
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| 关 键 词： | 溅射压强 ZnO薄膜 W掺杂 光致发光 |
Effect of Sputtering Pressure on Structure and the Optical Properties of WZO Films Deposited by RF Magnetron Sputtering |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | sputtering pressure ZnO thin film W-doped photoluminescence |
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