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| 热阴极直流放电等离子体化学气相淀积金刚石膜过程中等离子体环境的研究 * | |
| 作者姓名： | 朱晓东 詹如娟 周海洋 胡敏 温晓辉 周贵恩 李凡庆 |
| 作者单位： | 1 中国科学技术大学结构分析实验室 合肥230026 2 中国科学技术大学近代物理系 合肥230027 |
| 摘 要： | 利用光发射谱和Langmuir探针对热阴极直流放电等离子体化学气相淀积(PCVD)金刚石薄膜的等离子体环境进行了原位诊断 ,根据探针和光谱诊断结果定量地计算了在放电电流密度变化过程中基态氢原子和基态CH基团数密度的变化 ,发现基态和激发态的原子氢和CH基团的数密度均因放电密度增加而提高 .电子密度、CH发射的相对强度均随放电电流密度的增加而线性增加 ,而不同的含碳活性粒子的产生与电子温度的升高有关 .将诊断结果与金刚石的生长相联系 ,表明激发态的原子氢的产生促进了金刚石的生长 ,等离子体环境中电子温度和密度的增加对金刚石生长速率提高起着重要的作用 . |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 等离子体诊断 活性基团 |
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