首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

利用脉冲激光沉积法制备高Mg掺杂的六方相MgZnO薄膜
作者姓名:朱德亮  陈吉星  曹培江  贾芳  柳文军  马晓翠  吕有明
作者单位:1.深圳大学材料学院 深圳市特种功能材料重点实验室, 广东 深圳 518060
基金项目:国家自然科学基金,广东省自然科学基金,深圳市产学研科技合作,深圳市科技计划,深圳市南山区科技研发资金 
摘    要:选用Mg0.2Zn0.8O陶瓷靶,利用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶Si(100)和石英衬底上生长了一系列MgZnO薄膜(MZO)。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)和紫外可见光透射光谱(UV-Vis)等实验手段,研究了在不同工作压强下生长的薄膜样品的晶体结构、微观形貌和光学性能的变化。结果表明:所有的薄膜样品都是单一的ZnO六方相,禁带宽度随生长压强的升高而增加,变化范围在3.83~4.05eV之间,最短吸收边接近300nm。

关 键 词:脉冲激光沉积  MgZnO薄膜  光学性能
收稿时间:2009-09-25
修稿时间:2010-01-24
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《发光学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《发光学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号