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化学浴沉积cawo4薄膜的动力学
引用本文:翟然,汪浩,朱满康,严辉.化学浴沉积cawo4薄膜的动力学[J].应用化学,2007,24(12):1405-0.
作者姓名:翟然  汪浩  朱满康  严辉
作者单位:北京工业大学材料学院
基金项目:北京市教委科技发展计划项目
摘    要:对化学浴沉积法制备的CaWO4薄膜进行了动力学研究。采用Avrami-Erofeev方程进行计算,得到反应温度40~80℃和反应溶液pH值为8~12条件下,CaWO4薄膜的动力学方程。结合实验分析各动力学参数的变化,发现反应温度越高,反应速率常数k越大,薄膜趋向于自发形核生长;反应溶液pH值越高,反应速率常数k显著减小,Avrami指数n则几乎不变。结果可见,pH值对反应速率的影响大,而对成核和生长方式影响小。pH值对反应速率的影响主要在于改变了Ca-EDTA螯合体的络合稳定性,进而影响整个反应的进行速度。通过动力学研究可以明确反映反应参数对薄膜生长的影响,体现了薄膜生长过程的本质,有助于达到有效控制反应过程的目的。

关 键 词:化学浴沉积  钨酸钙  薄膜  动力学  
文章编号:1000-0518(2007)12-1405-04
收稿时间:2006-12-30
修稿时间:2007-04-30

Kinetics of CaWO4 Thin Films Prepared by Chemical Bath Deposition
ZHAI Ran,WANG Hao,ZHU Man-Kang,YAN Hui.Kinetics of CaWO4 Thin Films Prepared by Chemical Bath Deposition[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,2007,24(12):1405-0.
Authors:ZHAI Ran  WANG Hao  ZHU Man-Kang  YAN Hui
Abstract:
Keywords:chemical bath deposition  CaWO4  thin film  Kinetic
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