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| 光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理 | |
| 引用本文： | 柴立群,许乔,胡建平,周礼书,王毅,石琦凯.光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理[J].工程物理研究院科技年报,2004(1):173-174. |
| 作者姓名： | 柴立群 许乔 胡建平 周礼书 王毅 石琦凯 |
| 摘 要： | 采用时域有限差分方法（FDTD）进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟；同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。 |
| 关 键 词： | 损伤机理 光学材料 后处理 微缺陷 时域有限差分方法 激光损伤阈值 光学元件 电磁场分布 |
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