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激光溅射沉积制备的ZnO:Ga薄膜表面形貌分析
引用本文:刘云燕,宋洪胜,杨善迎,程传福,臧永丽.激光溅射沉积制备的ZnO:Ga薄膜表面形貌分析[J].光学学报,2011(1):272-276.
作者姓名:刘云燕  宋洪胜  杨善迎  程传福  臧永丽
摘    要:薄膜表面形貌定量研究有助于薄膜生长机理的认识.研究的薄膜是用激光脉冲沉积法(PLD)制备的ZnO:Ga(GZO)透明导电薄膜.由于GZO薄膜的生长是在远离平衡态情况下实现的,具备自仿射分形特征,可以用高度-高度相关函数进行描述.通过对用原子力显微镜(AFM)获得的表面高度数据进行相关运算,定量地分析了PLD制备的GZO...

关 键 词:薄膜  ZnO:Ga  原子力显微镜  高度-高度相关函数  表面形貌
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