激光溅射沉积制备的ZnO:Ga薄膜表面形貌分析 |
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引用本文: | 刘云燕,宋洪胜,杨善迎,程传福,臧永丽.激光溅射沉积制备的ZnO:Ga薄膜表面形貌分析[J].光学学报,2011(1):272-276. |
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作者姓名: | 刘云燕 宋洪胜 杨善迎 程传福 臧永丽 |
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摘 要: | 薄膜表面形貌定量研究有助于薄膜生长机理的认识.研究的薄膜是用激光脉冲沉积法(PLD)制备的ZnO:Ga(GZO)透明导电薄膜.由于GZO薄膜的生长是在远离平衡态情况下实现的,具备自仿射分形特征,可以用高度-高度相关函数进行描述.通过对用原子力显微镜(AFM)获得的表面高度数据进行相关运算,定量地分析了PLD制备的GZO...
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关 键 词: | 薄膜 ZnO:Ga 原子力显微镜 高度-高度相关函数 表面形貌 |
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