| 高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响 |
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| 引用本文： | 刘欢,朱如忠,龚建超,王琦琨,付丹扬,雷丹,黄嘉丽,吴亮.高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响[J].人工晶体学报,2020,49(8):1541-1547. |
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| 作者姓名： | 刘欢 朱如忠 龚建超 王琦琨 付丹扬 雷丹 黄嘉丽 吴亮 |
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| 作者单位： | 上海大学材料科学与工程学院,省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室,上海市钢铁冶金新技术开发应用重点实验室,上海200444;奥趋光电技术(杭州)有限公司,杭州311106 |
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| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射与高温退火工艺大批量制备了膜厚为200 nm、400 nm及800 nm的2英寸蓝宝石基氮化铝模板,并对高温退火前后不同膜厚模板使用各种表征手段进行对比分析.结果 表明:采用磁控溅射制备膜厚为200 nm的模板经高温退火后晶体质量得到显著提升,退火前后整片(0002)面和(10-12)面高分辨率X射线衍射摇摆曲线半高宽分别从632 ～ 658 arcsec和2 580 ～2 734 arcsec下降至70.9 ～ 84.5 arcsec和273.6 ～ 341.6 arcsec;模板5 μm×5μm区域内均方根粗糙度小于1 nm;紫外波段260 ～280 nm吸收系数为14 ～20 cm-1;高温退火前后拉曼图谱E2(high)声子模特征峰半高宽从13.5 cm-1降至5.2 cm-1,峰位从656.6 cm-1移动至657.6 cm-1,表明氮化铝模板内的拉应力经高温退火后得到释放,接近无应力状态.
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| 关 键 词： | 氮化铝 磁控溅射 高温退火 结晶质量 蓝宝石基 模板 |
Effect of High Temperature Annealing on Sapphire-based Aluminum Nitride Templates Fabricated by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| LIU Huan,ZHU Ruzhong,GONG Jianchao,WANG Qikun,FU Danyang,LEI Dan,HUANG Jiali,WU Liang.Effect of High Temperature Annealing on Sapphire-based Aluminum Nitride Templates Fabricated by DC Reactive Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2020,49(8):1541-1547. |
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| Authors: | LIU Huan ZHU Ruzhong GONG Jianchao WANG Qikun FU Danyang LEI Dan HUANG Jiali WU Liang |
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