| 超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究 |
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| 引用本文： | 李天富,陈东风,王洪立,孙凯,刘蕴韬.超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究[J].物理学报,2009,58(11):7993-7997. |
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| 作者姓名： | 李天富 陈东风 王洪立 孙凯 刘蕴韬 |
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| 作者单位： | (1)中国原子能科学研究院,北京 102413; (2)中国原子能科学研究院,北京 102413；德国柏林HMI研究所,柏林 D-14109 |
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| 基金项目： | 利用分子束外延薄膜生长技术，制备了200V/4 Fe/900V/MgO(100)薄膜样品，通过X射线反射和极化中子反射两种测量手段获得了薄膜的表面、界面及各层膜厚的相关结构信息．中子反射结果表明，Fe原子磁矩在室温下约为1.0±0.1 μB，随着温度的降低，Fe原子磁矩增加，在10 K时达到1.5±0.1 μB．利用指数定律拟合磁矩随温度的变化情况，外推得出4铁薄膜样品的居里温度约为310±30 K． |
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| 摘 要： | Ultrathin Fe film 200 V/4 Fe/900 V/MgO（100） has been prepared by molecular beam epitaxy （MBE）. The structure parameters, such as the surface and interface roughness and the thickness of each layer, were obtained by X-ray and neutron reflectivity mea
关键词：
超薄Fe膜
磁特性
极化中子反射
分子束外延
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| 关 键 词： | 超薄Fe膜 磁特性 极化中子反射 分子束外延 |
| 收稿时间： | 2009-01-15 |
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