基于外延层转移的超薄垂直结构深紫外LED |
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引用本文: | 严嘉彬,孙志航,房力,王林宁,王永进.基于外延层转移的超薄垂直结构深紫外LED[J].发光学报,2023(2):321-327. |
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作者姓名: | 严嘉彬 孙志航 房力 王林宁 王永进 |
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作者单位: | 南京邮电大学彼得·格林贝格尔研究中心 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(62004103);;江苏省自然科学基金(20KJB510019); |
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摘 要: | AlGaN基深紫外(Deep ultraviolet,DUV)发光二极管(Light-emitting diode,LED)可用于杀菌、水体净化、光疗、固化、传感和非视距通信等场合,在生物、环境、工业、医疗和军事等领域具有广阔的应用前景。针对现阶段DUV LED外量子效率较低的问题,本文提出了一种超薄垂直结构的DUV LED方案。该方案基于蓝宝石-硅晶圆键合和物理减薄工艺实现了高质量DUV LED外延层从蓝宝石衬底到高导热硅基板的转移,并采用转移后亚微米厚度的超薄外延层制备出垂直结构的AlGaN DUV LED。器件的出光面在减薄工艺后无需特殊的化学处理便可实现纳米级的粗化,配合超薄外延层结构具备显著的失谐微腔效应,有助于破坏高阶波导模式,从而增加TM波的出光并提升器件的出光效率。测试表明,转移后的外延层厚度约为710 nm,制备出的DUV LED发光光谱峰值波长约为271 nm。该垂直结构DUV LED制备方案为实现高效DUV光源提供了可行路径。
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关 键 词: | 深紫外发光二极管 外延层转移 晶圆键合 减薄工艺 |
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