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缓冲层Ta对FePt薄膜L10有序相转变及矫顽力的影响
作者姓名:张丽娇  蔡建旺  孟凡斌  李养贤
作者单位:(1)河北工业大学材料学院,天津 300130; (2)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京 100080
摘    要:制备了Ta/FePt/C系列多层膜,研究了样品在不同温度退火后的磁特性和微结构.实验结果表明,不同厚度的Ta缓冲层具有不同的微结构特征,显著影响FePt层的L10有序相的形成及相应的矫顽力.当Ta缓冲层较薄,Ta层为非晶态,且较为粗糙,由此使FePt在界面处产生较多的缺陷并导致较高密度的晶界,在退火过程中,受束缚相对较弱的非晶态的Ta原子比较容易沿FePt的缺陷和晶界处向FePt层扩散,使FePt在相变过程中产生的应力比较容易释放,同时,Ta在扩散过程中产生的缺陷,降低了FePt有序 关键词: FePt薄膜 0相')" href="#">L10相 原子扩散

关 键 词:FePt薄膜  L10  原子扩散
文章编号:1000-3290/2006/55(01)/0450-06
收稿时间:2005-03-10
修稿时间:2005-03-102005-05-13
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