| 化学发光—流动注射—胶束增敏连续测定钴铬研究 |
| |
| 引用本文： | 方国桢,汪丹丹.化学发光—流动注射—胶束增敏连续测定钴铬研究[J].分析测试学报,1997,16(2):27-32. |
| |
| 作者姓名： | 方国桢 汪丹丹 |
| |
| 作者单位： | 四川大学化学系 |
| |
| 摘 要： | 基于钴（Ⅱ）和铬（Ⅲ）对鲁米诺－过氧化氢化学发光反应均有催化作用，加入ＣＴＭＡＢ能明显提高发光的信噪比，可测定亚纳克量的钴和铬，加入ＥＤＴＡ掩蔽钴（Ⅱ）测得铬（Ⅲ）量，再由钴和铬总量求得钴（Ⅱ）量，实现钴和铬的不经分离而流动注射连续测定。此法线性范围宽达４个数量级（１０－１１～１０－７ｇ／ｍＬ），检测下限低（Ｃｏ２＋１．２×１０－１１ｇ／ｍＬ，Ｃｒ３＋１．０×１０－１１ｇ／ｍＬ），再现性好，工效高（１２０个样品／ｈ），用于三种矿泉水中痕量钴（Ⅱ）、铬（Ⅲ）连续测定，结果良好
|
| 关 键 词： | 化学发光，流动注射，胶束增敏，钴，铬，矿泉水，连续测定 |
Chemiluminescence Flow Injection Method for the Consecutive Determination of Cobalt and Chromium |
| |
| Fang Guozhen,Wang Dandan.Chemiluminescence Flow Injection Method for the Consecutive Determination of Cobalt and Chromium[J].Journal of Instrumental Analysis,1997,16(2):27-32. |
| |
| Authors: | Fang Guozhen Wang Dandan |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Chemiluminescence Flow injection Micelle sensitization Cobalt Chromium Consecutive determination Mineral water |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
