| 基于浸没式光刻光束稳定系统的反射镜 |
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| 引用本文： | 李美萱,李宏,张斯淇,郭明,付秀华.基于浸没式光刻光束稳定系统的反射镜[J].光子学报,2019,48(2):40-49. |
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| 作者姓名： | 李美萱 李宏 张斯淇 郭明 付秀华 |
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| 作者单位： | 吉林工程技术师范学院 量子信息技术交叉学科研究院,长春 130052;吉林省量子信息技术工程实验室,长春 130052;长春理工大学 光电工程学院,长春,130000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;教育厅科学研究项目;吉林省科技厅自然科学研究项目;博士科研启动基金 |
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| 摘 要： | 根据浸没式光刻系统的技术要求,设计了光束稳定系统,通过两个反射镜消除光束的位置漂移和指向漂移.基于深紫外材料特性,选择JGS1作为反射镜的基底,Al2O3和MgF2为高、低折射率薄膜材料.通过膜系设计软件完成了高反射膜的设计和模拟分析,并采用真空沉积技术研制了该薄膜.通过选择行星夹具镀膜设备和设计特定的补偿挡板来保证薄膜的非均匀性小于0.2%.测试了反射镜样片的光谱曲线和表面微观结构,结果表明研制的薄膜在45°入射时的反射率为98.5%,散射损耗为0.30%,满足系统使用要求.
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| 关 键 词： | 光学薄膜 光束稳定系统 非均匀性 吸收损耗 散射损耗 |
Mirrors of Beam Stabilization System for Immersion Lithography |
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| LI Mei-xuan,LI Hong,ZHANG Si-qi,GUO Ming,FU Xiu-hua.Mirrors of Beam Stabilization System for Immersion Lithography[J].Acta Photonica Sinica,2019,48(2):40-49. |
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| Authors: | LI Mei-xuan LI Hong ZHANG Si-qi GUO Ming FU Xiu-hua |
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| Institution: | (Institute for Interdisciplinary Quantum Information Technology,Jilin Engineering Normal University,Changchun 130052,China;Jilin Engineering Laboratory for Quantum Information Technology,Changchun 130052,China;School of Photo-Electronic Engineering,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130000,China) |
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| Abstract: | LI Mei-xuan;LI Hong;ZHANG Si-qi;GUO Ming;FU Xiu-hua(Institute for Interdisciplinary Quantum Information Technology,Jilin Engineering Normal University,Changchun 130052,China;Jilin Engineering Laboratory for Quantum Information Technology,Changchun 130052,China;School of Photo-Electronic Engineering,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130000,China) |
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| Keywords: | Optical thin film Beam stabilization system Non-uniformity Absorption loss Scattering loss |
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