| 石墨烯薄膜的光化学还原制备与表征 |
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| 引用本文： | 李冰,高峰,杨光敏,田苗苗,曲雪松,张昕彤.石墨烯薄膜的光化学还原制备与表征[J].高等学校化学学报,2014(12):2612-2615. |
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| 作者姓名： | 李冰 高峰 杨光敏 田苗苗 曲雪松 张昕彤 |
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| 作者单位： | 1. 长春师范大学物理学院,长春,130032
2. 东北师范大学紫外光发射材料与技术教育部重点实验室,长春,130024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，教育部博士学科点专项基金，长春师范大学自然科学基金，教育部博士后科学基金面上项目，吉林省教育厅“十二五”科学技术研究项目(批准号:2013-257;2013-454)资助.覮 Supported by the National Natural Science Foundation of China，the Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Program of Higher Education;China，the China Postdoctoral Science Foundation Funded Project，“the Twelfth Five-year”Planning Project of Jilin Provincial Education Department Foundation |
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| 摘 要： | 采用光化学还原方法制备了图案化的石墨烯薄膜.研究了光还原氧化石墨烯薄膜(PRGO)的热稳定性和发光性质.热重分析(TGA)结果表明,光化学还原主要引起氧化石墨烯(GO)氧化基团的减少,而对GO内水含量影响较小;发光(PL)测试结果表明,不同激发条件下,PRGO的发光与GO相比表现出了不同的变化规律:在波长514 nm的光激发下,PRGO的发光强度比GO明显降低,同时伴随着发光峰峰位红移;而在波长830 nm的光激发下,PRGO的发光强度比GO略有增强,并且发光峰峰位无明显变化,此结果表明不同尺寸的碳团簇局域态(sp2C团簇)的光还原反应活性不同,这与GO特殊的能带结构密切相关.
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| 关 键 词： | 光化学还原 氧化石墨烯 发光性质 |
Synthesis and Characterization of Graphene Film via Photo-chemical Reduction of Graphene Oxide |
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| LI Bing,GAO Feng,YANG Guangmin,TIAN Miaomiao,QU Xuesong,ZHANG Xintong.Synthesis and Characterization of Graphene Film via Photo-chemical Reduction of Graphene Oxide[J].Chemical Research In Chinese Universities,2014(12):2612-2615. |
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| Authors: | LI Bing GAO Feng YANG Guangmin TIAN Miaomiao QU Xuesong ZHANG Xintong |
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| Institution: | LI Bing;GAO Feng;YANG Guangmin;TIAN Miaomiao;QU Xuesong;ZHANG Xintong;College of Physics,Changchun Normal University;Key Laboratory for UV-Emitting Materials and Technology,Ministry of Education,Northeast Normal University; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Photo-chemical reduction Graphene oxide Photoluminescence property |
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