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| TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能 | |
| 作者姓名： | 劳技军 孔明 张惠娟 李戈扬 |
| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室;上海 200030 |
| 基金项目： | 上海市纳米技术专项基金（批准号：0352nm084）资助的课题. |
| 摘 要： | 研究了TiN/SiC纳米多层膜中立方SiC（B1cubic SiC）的形成及其对TiN/SiC多层膜力学性能的影响.结果表明：在TiN/SiC多层膜中,非晶态的SiC层在厚度小于0.6nm时形成立方结构并与TiN形成共格外延生长的超晶格柱状晶,使多层膜产生硬度和弹性模量显著升高的超硬效应,最高硬度超过60GPa.SiC随着层厚的增加转变为非晶相,从而阻止了多层膜的共格外延生长,使薄膜呈现TiN纳米晶和SiC非晶组成的层状结构特征,同时多层膜的硬度和弹性模量下降.TiN/SiC纳米多层膜产生的超硬效应与立方
关键词：
立方碳化硅
TiN/SiC纳米多层膜
外延生长
超硬效应 |
| 关 键 词： | 立方碳化硅 TiN/SiC纳米多层膜 外延生长 超硬效应 |
| 文章编号： | 1000-3290/2004/53(06)/1961-06 |
| 收稿时间： | 2003-07-27 |
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