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| 表面物理讲座第五讲 半导体表面 | |
| 引用本文： | 谢希德.表面物理讲座第五讲 半导体表面[J].物理,1981(9). |
| 作者姓名： | 谢希德 |
| 作者单位： | 复旦大学 |
| 摘 要： | 在半导体器件发展的初期,人们就已经知道半导体器件的稳定性在很大程度上依赖于半导体表面的状况.由于在工艺过程中难以严格控制表面的条件,为了保证器件的稳定性,只得对表面尽量采取有效的钝化措施.近十余年来由于超高真空技术的发展,不仅可以制备清洁的表面,而且可以在超高真 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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