基于硅锗异质结的二维量子点阵列的制备与表征 |
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作者姓名: | 王丰 王宁 康加旻 王保传 郭国平 |
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作者单位: | 中国科学技术大学, 中国科学院量子信息重点实验室, 合肥230026;;中国科学技术大学, 中国科学院量子信息重点实验室, 合肥230026; 本源量子计算科技有限责任公司, 合肥230093 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(批准号:12034018) |
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摘 要: | 硅基半导体量子点中的自旋量子比特近几年来发展迅速,其单比特门与两比特门操作保真度已经突破了容错量子计算的阈值.在此基础上,如何构建硅基量子点二维阵列变得广受学界关注,然而二维阵列复杂的结构在器件制备和测量上均带来挑战.本文设计并成功制备了一种Si/SiGe异质结上的2×4结构八量子点二维阵列器件.借助输运测量方法测量了八量子点器件的全部电荷稳定性相图,并进一步地使用电荷感应调制测量方法得到了器件内的少电子区电荷稳定性相图,说明了对量子点电荷态的高灵敏度探测能力.此外,通过调控势垒电极展示了对量子点间隧穿耦合的调控作用并测量了多量子点耦合的电荷稳定性相图.本文的研究结果展示了使用Si/SiGe异质结构建自旋量子比特二维阵列的潜力,为未来硅量子点二维阵列的进一步扩展提供经验与参考.
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关 键 词: | 半导体量子点 二维阵列 电荷稳定性相图 隧穿耦合 |
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