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复杂外形约束下的多形态特征TPMS微通道设计方法
引用本文:杨冠华,吴蕾,王清辉,池梓鹏.复杂外形约束下的多形态特征TPMS微通道设计方法[J].浙江大学学报(理学版),2023(6):795-802.
作者姓名:杨冠华  吴蕾  王清辉  池梓鹏
作者单位:1. 华南理工大学机械与汽车工程学院;2. 工业和信息化部电子第五研究所
基金项目:国家自然科学基金资助项目(52175225);
摘    要:对复杂外形约束下的三周期极小曲面(triply periodic minimal surface,TPMS)微通道结构,提出一种基于共形映射的多形态特征设计方法。首先,将自由曲面边界映射至平面,在二维参数域上进行通道拓扑结构设计;然后,提出一种基于环的Beta生长算法,实现多种TPMS形态特征的平滑过渡;最后,将在二维参数域上设计的微通道结构逆映射至自由曲面约束下的三维空间,完成设计。实例分析表明,采用本文方法设计的微通道结构对复杂曲面边界具有较好的适应能力,能实现内部形态特征设计目标。

关 键 词:TPMS微通道结构  多形态特征  共形映射  过渡区域
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