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| XRD和XPS法研究WO3/SiO2体系 | |
| 引用本文： | 刘英骏,吴江平,郭沁林,桂琳琳,唐有祺.XRD和XPS法研究WO3/SiO2体系[J].催化学报,1987,8(1):14-19. |
| 作者姓名： | 刘英骏 吴江平 郭沁林 桂琳琳 唐有祺 |
| 作者单位： | 北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所化学系，北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所 1984年毕业生 |
| 摘 要： | 用X射线衍射(XRD)相定量外推法和X射线光电子能谱(XPS)峰强度比(Iw_(4f)/I_(i-p))法定量测定了WO_3在硅胶表面的最大分散量,两种方法的结果一致,为1.8×10_(-4)克WO_3/米~2(即4.6×10~(17)W原子/米~2)。表明WO_3在硅胶表面呈单层分散,但不是密置单层分散,WO_3在硅胶表面的单层覆盖率只有9%。 |
| 收稿时间： | 1987-03-25 |
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