| 线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积 |
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| 引用本文： | 黑立富,唐伟忠,樊凤玲,耿春雷,吕反修.线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积[J].人工晶体学报,2005,34(5):794-798. |
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| 作者姓名： | 黑立富 唐伟忠 樊凤玲 耿春雷 吕反修 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 本文介绍了利用线形同轴耦合式微波等离子体CVD法在硬质合金微型钻头(微钻)上沉积金刚石涂层的初步实验结果.微型钻头的直径为0.5mm,其中WC晶粒的尺寸约为0.5μm.在沉积前,先用Murakami溶液(10gKOH+10gK3Fe(CN)6]+100ml H2O)对微钻刻蚀10min,使其表面粗化,然后用硫酸-双氧水溶液(10ml98wt;H2SO4+100ml 38;m/vH2O2)对其浸蚀60s,以去除其表面的Co.在金刚石涂层过程中发现,由于微钻尖端在微波电磁场中产生较集中的辉光放电现象,因而在微钻尖端很难获得金刚石涂层.针对这种金刚石涂层过程中的"尖端效应",尝试使用了金属丝屏蔽的方法以改变微钻周围的微波电磁场分布,克服了上述金刚石涂层过程中的"尖端效应",首次成功地采用微波等离子体CVD法在微钻上沉积了厚度为1.5μm的金刚石涂层.
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| 关 键 词： | 金刚石涂层 微钻 线形微波等离子体CVD设备 |
| 文章编号： | 1000-985X（2005）05-0794-05 |
| 收稿时间： | 01 4 2005 12:00AM |
| 修稿时间： | 2005-01-04 |
Diamond Coating Growth on Micro-drills by Using Linear-coaxially Coupled Microwave Plasma CVD Device |
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| HEI Li-fu,TANG Wei-zhong,FAN Feng-ling,GENG Chun-lei,LU Fan-xiu.Diamond Coating Growth on Micro-drills by Using Linear-coaxially Coupled Microwave Plasma CVD Device[J].Journal of Synthetic Crystals,2005,34(5):794-798. |
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| Authors: | HEI Li-fu TANG Wei-zhong FAN Feng-ling GENG Chun-lei LU Fan-xiu |
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| Institution: | University of Science and Technology Beijing, Beijing 100053 ,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond coating micro-drill linear-coaxially coupled microwave plasma CVD device |
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