| 新型MPCVD金刚石膜等离子发生器及等离子特性数值模拟 |
| |
| 引用本文： | 李晓静,于盛旺,张思凯,唐伟忠,吕反修. 新型MPCVD金刚石膜等离子发生器及等离子特性数值模拟[J]. 人工晶体学报, 2010, 39(4): 867-871 |
| |
| 作者姓名： | 李晓静 于盛旺 张思凯 唐伟忠 吕反修 |
| |
| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研基金资助课题 |
| |
| 摘 要： | ![]()
本文提出了用于化学气相沉积金刚石膜的新型微波等离子体发生器.使用环形介质窗口,置于沉积台的下方而远离等离子体,允许产生体积较大并且温度较高的等离子体.采用时域有限差分法结合Matlab语言,模拟了发生器内的电场分布和等离子体电子密度,研究微波输入功率﹑气体压力等控制工艺参数对等离子体特性的影响.模拟结果表明,在一定微波输入功率和气体压力条件下,在沉积台上方形成均匀分布的等离子体,电场强度﹑电子密度和吸收功率密度随微波工艺参数的改变而呈现有规律的变化.本研究将为微波等离子体化学气相沉积技术的改进提供参考,为进一步建立使用此种新型等离子发生器的MPCVD设备奠定了基础.
|
| 关 键 词： | 等离子反应腔 数值模拟 时域有限差分法 电子密度, |
Numerical Simulation of Plasma in Novel Plasma Reactor for MPCVD Diamond Film |
| |
| LI Xiao-jing,YU Sheng-wang,ZHANG Si-kai,TANG Wei-zhong,LV Fan-xiu. Numerical Simulation of Plasma in Novel Plasma Reactor for MPCVD Diamond Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2010, 39(4): 867-871 |
| |
| Authors: | LI Xiao-jing YU Sheng-wang ZHANG Si-kai TANG Wei-zhong LV Fan-xiu |
| |
| Abstract: | ![]()
|
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
