| 高稳定性Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜DC-SQUID |
| |
| 引用本文： | 王晶,韩冰,徐凤枝,赵士平,陈赓华,杨乾声,阎少林,方兰,何明,路荣涛.高稳定性Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜DC-SQUID[J].低温物理学报,1999,21(4):296-299. |
| |
| 作者姓名： | 王晶 韩冰 徐凤枝 赵士平 陈赓华 杨乾声 阎少林 方兰 何明 路荣涛 |
| |
| 作者单位： | 1. 中科院物理所,凝聚态物理中心,北京,100080
2. 南开大学电子科学系,天津,300071 |
| |
| 基金项目： | 国家超导研究开发中心资助项目 |
| |
| 摘 要： | 与YBCO薄膜相比,Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜具有更高的Tc和更好的抗湿性能,所以Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜器件不仅在液氮温度下具有更好的稳定性,而且在室温下具有更长的存放寿命.我们用磁控溅射的方法分别在24°和36.8°的STO双晶衬底上外延出Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜并制备成晶界结DC-SQUID,比较了二者由于晶界夹角不同而产生的性能差异,并给出可工作在95K的DC-SQUID干涉曲线;对工作在77K的Tl2Ba2CaCu2Ox和YBCO薄膜双晶DC-SQUID,比较了二者在噪声特性及临界电流和结电阻随温度变化等特性,并对结果作了讨论.
|
| 关 键 词： | 约瑟夫森器件 DC－SQUID TBCCD 薄膜 稳定性 |
HIGHLY STABLE DC-SQUIDS WITH Tl2Ba2CaCu2Ox FILMS |
| |
| J. Wang,B. Han,F.Z. Xu,S.P. Zhao,G.H. Chen,Q.S. Yang,S.L. Yan,L.Fang,M.He,R.T. Lu.HIGHLY STABLE DC-SQUIDS WITH Tl2Ba2CaCu2Ox FILMS[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,1999,21(4):296-299. |
| |
| Authors: | J Wang B Han FZ Xu SP Zhao GH Chen QS Yang SL Yan LFang MHe RT Lu |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
