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| 反应溅射VN/SiO2纳米多层膜的微结构与力学性能 | |
| 作者姓名： | 岳建岭 孔明 赵文济 李戈扬 |
| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海 200030 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(批准号： 50571062)资助的课题. |
| 摘 要： | 采用V和SiO2靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同SiO2和VN调制层厚的VN/SiO2纳米多层膜. 利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能. 结果表明：在Ar,N2混和气体中,射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮. 单层膜时以非晶态存在的SiO2,当其厚度小于1nm时,在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化,并与VN层形成共格外延生长. 相应地,多层膜的硬度得到明显提高,最高硬度达34GPa. 随SiO2层厚度的进一步增加,SiO2层逐渐转变为非晶态,破坏了与VN层的共格外延生长结构,多层膜硬度也随之降低. VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.
关键词：
2纳米多层膜')" href="#">VN/SiO2纳米多层膜
共格外延生长
非晶晶化
超硬效应 |
| 关 键 词： | VN/SiO2纳米多层膜 共格外延生长 非晶晶化 超硬效应 |
| 文章编号： | 1000-3290/2007/56(03)/1568-06 |
| 收稿时间： | 2006-03-14 |
| 修稿时间： | 2006-03-14 |
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