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| 感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素 | |
| 引用本文： | 朱锦方,曹秀琴,罗培卿,张雪金.感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素[J].分析化学,1980(6). |
| 作者姓名： | 朱锦方 曹秀琴 罗培卿 张雪金 |
| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所 |
| 摘 要： | 感应耦合等离子体(ICP)的出现,可誉为原子发射光谱分析法的一次重大突破。它具有灵敏度高、准确度好、干扰少、测定范围广等特点,因而获得了广泛的应用。ICP的溶液进样方式有去溶和不去溶两种。前者检出极限比后者更低,但共存元素和酸度对测定的影响却比后者敏感。因此前者适合于高纯试样经基体分离后进行测定,后者适合于试样的直接测定。根据上述特点,本文将去溶ICP应用于高纯氮化硼中痕量杂质的测定。在高压 |
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