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| 非平衡磁控溅射系统离子束流磁镜效应模型 | |
| 作者姓名： | 牟宗信 李国卿 秦福文 黄开玉 车德良 |
| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连116024 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(批准号：50407015)资助的课题. |
| 摘 要： | 为了研究非平衡磁控溅射沉积系统的等离子体特性,采用常规磁控溅射靶和同轴约束磁场构成非平衡磁控溅射沉积系统.在放电空间不同的轴向位置,Ar放电,02Pa和150V偏压条件下,采用圆形平面离子收集电极,测量不同约束磁场条件下的饱和离子束流密度.研究结果表明,在同轴磁场作用下,收集电极的离子束流密度能达到饱和值9mA/cm2左右,有利于在沉积薄膜的过程中产生离子轰击效应.根据磁流体理论分析了同轴约束磁场形成的磁镜效应和对放电过程的影响机理.实验与模型计算结果的比较表明,模型从理论上表达了同轴磁场约束对非平衡磁控溅射等离子体特性的影响规律.
关键词：
等离子体
金属薄膜/非磁性
磁控溅射
磁镜 |
| 关 键 词： | 等离子体 金属薄膜/非磁性 磁控溅射 磁镜 |
| 文章编号： | 1000-3290/2005/54(03)/1378-07 |
| 收稿时间： | 2004-06-28 |
| 修稿时间： | 2004-08-04 |
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