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| 含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物的制备与性能研究 | |
| 引用本文： | 李元勋,蒋亚东,韩莉坤.含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物的制备与性能研究[J].光学学报,2011(1):277-281. |
| 作者姓名： | 李元勋 蒋亚东 韩莉坤 |
| 摘 要： | 通过Friedel-Crafts烷基化反应合成了一种含三氰基二氢呋喃结构单元的新型非线性光学聚合物(P1),并采用旋涂法和电晕极化方式制备了极化聚合物膜.利用原子力显微镜和紫外可见分光光度计研究了极化前、后聚合物膜的表面形貌和吸光度的变化,并根据极化前后薄膜吸光度的变化计算了发色团分子的有序度,φ=0.20.采用二次谐... |
| 关 键 词： | 非线性光学 三氰基二氢呋喃 聚合物 二次谐波产生 |