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| 二元光学元件制作误差分析与模拟 | |
| 引用本文： | 徐平 张晓春. 二元光学元件制作误差分析与模拟[J]. 光学学报, 1996, 16(6): 33-838 |
| 作者姓名： | 徐平 张晓春 |
| 作者单位： | 四川大学信息光学研究所!成都，610064，四川大学信息光学研究所!成都，610064，四川大学信息光学研究所!成都，610064，四川大学信息光学研究所!成都，610064，四川大学信息光学研究所!成都，610064，中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成都，610209，中国科学院光 |
| 基金项目： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助，国家自然科学基金，国家教委博士点基金 |
| 摘 要： | 从标量衍射理论出发，首先从理论上计算出多台阶二元化学元件发生深度误差时衍射效率的解析式，然后以４台阶和８台阶闪耀光栅为例，对二元光学元件套刻制作中的主要误差及其这些误差之间的相互影响进行了系统的分析和计算机模拟研究，模拟结果给实际制作提供了重要理论指导和实验参数。 |
| 关 键 词： | 二元 光学元件 误差分析 闪耀光栅 |
| 收稿时间： | 1994-12-27 |
Fabrication Errors Analysis and Simulation of Binary Optical Element |
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| Xu Ping, Zhang Xaochun, Guo Lurong, Guo Yongkang, Zhou Xiang. Fabrication Errors Analysis and Simulation of Binary Optical Element[J]. Acta Optica Sinica, 1996, 16(6): 33-838 | |
| Authors: | Xu Ping Zhang Xaochun Guo Lurong Guo Yongkang Zhou Xiang |
| Abstract: | In this paper, the analytic expression of diffraction efficiency corresponding to the mask etch-depth errors is deduced from the scale diffraction theory. Choosing 4-step and 8-step blazed grating as an example, we simulated systematically main registeringetch errors and their interactions of binary optical element using computer. The results of computer simulation agree well with that of the analytic method. It can provide theoretical basis and experiment parameter for practical fabrication. |
| Keywords: | binary optical element error analysis computer simulation depth error alignment error blazed grating |
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