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缓冲层对导模共振滤光片反射光谱截止特性的影响
引用本文:王振华,吴永刚,桑田,王占山,彭东功,焦宏飞,陈乃波,曹鸿. 缓冲层对导模共振滤光片反射光谱截止特性的影响[J]. 光学学报, 2009, 29(3). DOI: 10.3788/AOS20092903.0849
作者姓名:王振华  吴永刚  桑田  王占山  彭东功  焦宏飞  陈乃波  曹鸿
作者单位:同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092
摘    要:提出将均质多层膜系设计中的缓冲层概念71入到反射导模共振(GMR)滤光片的设计中,通过严格的耦合波理论精确计算,研究了加入缓冲层对改善导模共振滤光片反射峰边带截止深度及截止宽度的作用.双层导模共振滤光片结构中,入射光为TE偏振光时,设计增加97.5 nm缓冲层后,能够明显地展宽反射光谱范围.由原来的192.4 nm展宽到345.6 nm,并且在650~1250 nm波长范围内的边带截止度均比不含缓冲层结构的要深.入射光为TM偏振光,以类似TE结构的滤光片在布儒斯特角入射时,在700~1300 nm波长范围内,较不含缓冲层的结构,也能够获得更宽的截止带反射光谱和更深的截止度.在提出的膜系结构中,经过优化膜系、选择合适的光栅参数等,可以使反射光谱具有更好的截止特性,同时保证设计的共振峰位置不变.

关 键 词:薄膜  导模共振  光栅  缓冲层  反射滤光片  截止特性  布儒斯特角

Impact of Buffer Layer on Cut-0ff Properties of Reflection Spectra for Guided-Mode Resonance Fliters
Wang Zhenhua,Wu Yonggang,Sang Tian,Wang Zhanshan,Peng Donggong,Jiao Hongfei,Chen Naibo,Cao Hong. Impact of Buffer Layer on Cut-0ff Properties of Reflection Spectra for Guided-Mode Resonance Fliters[J]. Acta Optica Sinica, 2009, 29(3). DOI: 10.3788/AOS20092903.0849
Authors:Wang Zhenhua  Wu Yonggang  Sang Tian  Wang Zhanshan  Peng Donggong  Jiao Hongfei  Chen Naibo  Cao Hong
Abstract:
Keywords:
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