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微束斑X射线源及X射线光学元件
引用本文:王凯歌,王雷,牛憨笨. 微束斑X射线源及X射线光学元件[J]. 应用光学, 2008, 29(2): 183-191
作者姓名:王凯歌  王雷  牛憨笨
作者单位:1. 西北大学,光子与光子技术研究所,陕西,西安,710069;深圳大学,光电子学研究所,科研处,深圳,518060
2. 西安应用光学研究所,陕西,西安,710065
3. 深圳大学,光电子学研究所,科研处,深圳,518060
基金项目:国家自然科学基金 , 深圳大学学校基金
摘    要:高质量的X射线源,尤其高亮度的微纳束斑X射线源是现代X射线光学高清晰成像最为关键的部件之一,在工业无损探伤、生命科学、材料科学等科学研究和实际应用中具有重要的意义。简单介绍了微束斑X射线源的产生方法及发展历史,并对微束X射线光学涉及到的聚焦X射线光学元件(如X射线掠入射反射镜、布拉格法反射镜、多层膜反射镜、多层膜光栅、X射线波带片、毛细管聚焦透镜和复合折射透镜等)的主要特点作了简要的系统介绍。最后展望了微细束X射线在微纳检测与分析等方面的应用前景。

关 键 词:微束斑X射线源  X射线光学  X射线光学元件
文章编号:1002-2082(2008)02-0183-09
收稿时间:2007-03-02
修稿时间:2007-03-02

Microfocal x-ray source and x-ray optical elements
WANG Kai-ge,WANG Lei,NIU Han-ben. Microfocal x-ray source and x-ray optical elements[J]. Journal of Applied Optics, 2008, 29(2): 183-191
Authors:WANG Kai-ge  WANG Lei  NIU Han-ben
Affiliation:1. Institute of Photon and Photon Technology, Northwest University, Xi′an 710069, China; 2. Institute of Optoelectronics, Shenzhen University, Shenzhen 518060, China; 3. Xi′an Institute of Applied Optics, Xi′an 710065, China
Abstract:The high quality x-ray sources,especially for the microfocal x-ray source with high-brightness are crucial components for modern x-ray imaging techniques. They are widely used in applications such as non-destructive diagnostics,life-science,material science,and biomedicine.The methods to make the microfocal x-ray source and its applications are briefly introduced.Various focusing x-ray optical elements related to microfocal x-ray,including Kirkpatrick-Baez mirror,multilayer mirror,Fresnel zone plate,Bragg-Fnesnel zone plate,polycapillary x-ray lens,multilayer blazed grating,compound refractive x-ray lens,are introduced. The potential applications for the microfocal x-ray source in mircometer and nanometer test and analysis are discussed.
Keywords:microfocal x-ray source  x-ray optics  x-ray optical element
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