首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

非晶GeO2-SiO2复合薄膜的制备及其红外吸收谱
引用本文:张祖新,李伟,张文炳.非晶GeO2-SiO2复合薄膜的制备及其红外吸收谱[J].武汉大学学报(理学版),2000,46(1):84-86.
作者姓名:张祖新  李伟  张文炳
作者单位:张祖新(武汉大学物理学系,武汉 430072);李伟(山东师范大学 物理学系,济南250014);张文炳(武汉大学物理学系,武汉 430072)
基金项目:国家自然科学基金项目(19834070)、教育部重点科学技术项目基金资助
摘    要:采用锗-硅复合靶射频反应溅射技术,制备了GeO

关 键 词:非晶  二氧化锗  二氧化硅复合膜  红外谱
文章编号:0253-9888(2000)01-0084-03
修稿时间:1999-09-25

Preparatio and Infrared Spectra of GeO2-SiO2 Thin Amorphous Films
ZHANG Zu-xin,LI Wei,ZHANG Wen-bing.Preparatio and Infrared Spectra of GeO2-SiO2 Thin Amorphous Films[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,2000,46(1):84-86.
Authors:ZHANG Zu-xin  LI Wei  ZHANG Wen-bing
Institution:ZHANG Zu-xin ; (Department of Physics ,Wuhan University, Wuhan 430072,China); LI Wei ; (Department of Physics,Shandong Normal University,Jinan 250014,China); ZHANG Wen-bing ; (Department of Physics ,Wuhan University, Wuhan 430072,China)
Abstract:
Keywords:
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号