| TaN/TiN和NbN/TiN纳米结构多层膜超硬效应及超硬机理研究 |
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| 作者姓名： | 喻利花 董师润 许俊华 李戈扬 |
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| 作者单位： | (1)江苏科技大学材料科学与工程学院,江苏省先进焊接技术重点实验室,镇江 212003; (2)上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海 200030 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法制备单层TaN,NbN和TiN薄膜和不同调制周期的TaN/TiN和NbN/TiN纳米多层膜.薄膜采用X射线衍射仪、高分辨率透射电子显微镜和显微硬度仪进行表征.结果表明TaN/TiN和NbN/TiN纳米多层膜在一定的调制周期范围内均呈共格界面,相应地均出现了超硬效应,且最大硬度值接近.分析了TaN/TiN与NbN/TiN纳米多层膜的超硬机理,TaN/TiN的晶格错配度与NbN/TiN的接近,但TaN/TiN的弹性模量差与NbN/TiN的有一定的差别,表明由于晶格错配使共格外延生长在界面处
关键词：
TaN/TiN纳米多层膜
NbN/TiN纳米多层膜
外延生长
超硬效应
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| 关 键 词： | TaN/TiN纳米多层膜 NbN/TiN纳米多层膜 外延生长 超硬效应 |
| 收稿时间： | 2008-01-16 |
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