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光学膜层激光预处理过程研究
引用本文:蒋晓东, 黄祖鑫, 任寰, 等. 光学膜层激光预处理过程研究[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14(03).
作者姓名:蒋晓东  黄祖鑫  任寰  彭净  叶琳  唐灿
作者单位:1.中国工程物理研究院 激光 聚变研究中心, 四川 绵阳 621 900
摘    要:光学元件经过激光预处理后,其抗激光破坏能力最大提高2倍以上,系统研究激光预处理机理和工艺,能安全可靠地提高光学元件损伤阈值,提升高功率激光系统的能量密度。研究了几种sol gel膜、PVD膜在预处理前后膜层表面的变化(损伤形貌)以及损伤阈值的增幅,发现预处理过程膜层仍然发生了一定程度的轻微损伤,这种损伤和膜层本身缺陷、激光参数密切相关,预处理过程可逐步消除膜层缺陷。

关 键 词:光学膜层   激光预处理   损伤形貌
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