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| Cr—AlN界面的二次离子质谱研究 | |
| 引用本文： | 岳瑞峰,王佑祥.Cr—AlN界面的二次离子质谱研究[J].分析测试学报,1999,18(3):5-7. |
| 作者姓名： | 岳瑞峰 王佑祥 |
| 作者单位： | [1]清华大学微电子学研究所 [2]中国科学院表面物理重点实验室 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 界面 二次离子质谱 氮化铝陶瓷 铬薄膜 沉积 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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