| 同步辐射X射线光刻技术 |
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| 引用本文： | 张东平,乐德芬,胡一贯.同步辐射X射线光刻技术[J].应用光学,2001,22(4):40-44,48. |
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| 作者姓名： | 张东平 乐德芬 胡一贯 |
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| 作者单位： | 1. 中国科技大学物理系,安徽合肥230026
2. 国家同步辐射实验室,安徽合肥 230027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No:69876026). |
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| 摘 要： | 同步辐射X射线光刻（SRXL）是本世纪超大规模集成电路（VLSI）发展中最有希望的深亚微米图形加工技术，本文综述了SRXL技术研究的现状及存在的问题，并对其今后的发展进行展望。
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| 关 键 词： | 同步辐射 X射线 光刻技术 集成电路 |
| 文章编号： | 1002-2082(2001)04-0040-05 |
| 收稿时间： | 2000/9/23 |
SYNCHROTRON RADIATION X-RAY LITHOGRAPHY TECHNOLOGY |
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| ZHANG Dong ping ,LE De fen ,HU Yi guan.SYNCHROTRON RADIATION X-RAY LITHOGRAPHY TECHNOLOGY[J].Journal of Applied Optics,2001,22(4):40-44,48. |
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| Authors: | ZHANG Dong ping LE De fen HU Yi guan |
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| Institution: | ZHANG Dong ping 1,LE De fen 1,HU Yi guan 2 |
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| Abstract: | Synchrotron radiation X ray lithography(SRXL) is a promising technology for fabricating very large scale integrated(VLSI) devices with dimensions of sub 0.1 μm this century.In this article,recent advances in SRXL are reviewed,and its existing questions and developing directions are also presented. |
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| Keywords: | synchrotron radiation X ray lithography |
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