| 流动注射示差动力学化学发光法测定微量硅 |
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| 引用本文： | 蒋海龙,杨敏丽.流动注射示差动力学化学发光法测定微量硅[J].分析化学,1997,25(2):149-152. |
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| 作者姓名： | 蒋海龙 杨敏丽 |
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| 作者单位： | 淮阴师范专科学校化学系!淮阴223001(蒋海龙)，宁夏大学化学系!银川750021(杨敏丽)，陕西师范大学化学系!西安710062(吕九如) |
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| 摘 要： | 根据硅钼杂多酸氧化Ｌｕｍｉｎｏｌ产生化学发光的性质，以及硅钼杂多酸与磷钼杂多酸形成速度的差异，采用停流技术，在硅磷共存时，不经分离，实现了对和钢样中硅的选择性测定。该法检出限为２．０×１０＾－８ｇ／ｍＬ，线性范围１．０×１０＾－７－１．０×１０＾－５ｇ／ｍＬ，相对标准偏差为２．８％。
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| 关 键 词： | 流动注射分析 示差动力学 化学发光 硅 |
Determination of Trace Silicon by Flow Injection/Differential Kinetic Chemiluminescence Method |
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| Jiang Hailong.Determination of Trace Silicon by Flow Injection/Differential Kinetic Chemiluminescence Method[J].Chinese Journal of Analytical Chemistry,1997,25(2):149-152. |
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| Authors: | Jiang Hailong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Flow injection analysis differential kinetics chemiluminescence luminol silicon |
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