GaAs(100)表面硫钝化的新方法:CH3CSNH2/NH4OH处理 |
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作者姓名: | 陆尔东 徐彭寿 余小江 徐世红 潘海斌 张新夷 |
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作者单位: | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230026 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助的课题. |
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摘 要: | 建立了一种硫钝化GaAs(100)表面的新方法,即CH3CSNH2/NH4OH溶液处理,应用同步辐射光电子能谱(SRPES)和X射线光电子能谱(XPS)表征了该钝化液处理的n-GaAs(100)表面的成键,特性和电子态.结果表明,经过处理的n-GaAs(100)表面,S既与As成键也与Ga成键,形成S与GaAs的新界面,并且Ga和As的氧化物被移走,这标志着CH3CSNH2/NH4关键词:
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关 键 词: | 砷化镓 硫钝化 钝化液处理 |
收稿时间: | 1994-12-22 |
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